專為實(shi)驗室MEA制(zhi)備(bei)打造(zao)的(de)DC納(na)米超(chao)聲噴塗(tu)儀

在燃料電(dian)池(chi)、電(dian)解(jie)水等前(qian)沿能源領(ling)域的(de)實驗室中(zhong)，高(gao)性能膜(mo)電(dian)極（MEA）的制(zhi)備(bei)是推(tui)動科(ke)研(yan)進(jin)展(zhan)的(de)關鍵(jian)步驟。催化層(ceng)漿(jiang)料的均勻塗(tu)覆，更(geng)是(shi)直(zhi)接影響(xiang)MEA性能與實(shi)驗數據的可靠(kao)性。

然而(er)，傳(chuan)統(tong)噴塗(tu)技術常因噴頭堵(du)塞問(wen)題(ti)，讓(rang)許(xu)多(duo)人(ren)困擾(rao)不已：

• 實驗中途噴頭堵(du)塞，導(dao)致樣(yang)品(pin)作廢(fei)、進(jin)度中(zhong)斷(duan)
• 催化劑(ji)漿(jiang)料（如Pt/C）在噴頭內幹涸(he)，造(zao)成(cheng)物(wu)料與經(jing)費(fei)的(de)雙重(zhong)浪費
• 清理(li)微米級噴孔(kong)耗時(shi)耗力，拖(tuo)慢(man)科(ke)研(yan)節奏(zou)
• 噴塗(tu)不均(jun)勻，導(dao)致MEA性能數據離散，重(zhong)復(fu)性差
• 壹(yi)段時(shi)間(jian)後(hou)，漿(jiang)料出現沈澱(dian)、分(fen)層

針(zhen)對實(shi)驗室MEA制(zhi)備(bei)中的(de)噴塗(tu)痛點(dian)，武漢(han)電(dian)弛(chi)公(gong)司推出(chu)DC型(xing)納米超(chao)聲噴塗(tu)儀，以超(chao)聲霧(wu)化技(ji)術為(wei)核心(xin)，結(jie)合(he)緊(jin)湊(cou)型(xing)桌(zhuo)面(mian)設計，解決“堵頭(tou)"與“占(zhan)地"兩(liang)大難題(ti)，助您高(gao)效推進(jin)科研(yan)任務(wu)。

為何(he)我(wo)們能做(zuo)到(dao)“真(zhen)正不堵(du)頭(tou)"？

傳統(tong)氣動噴頭依(yi)賴高(gao)壓擠送(song)漿(jiang)料通過微孔(kong)，易(yi)因未(wei)及時(shi)清(qing)理(li)或(huo)清(qing)理(li)不當(dang)導(dao)致漿(jiang)料顆(ke)粒滯(zhi)留、溶(rong)劑(ji)揮發(fa)導致堵(du)塞(sai)。

而(er)DC型(xing)納米超(chao)聲噴塗(tu)儀采用獨(du)特(te)的(de)霧(wu)化(hua)結(jie)構，漿(jiang)料不流經(jing)噴頭內部，從物(wu)理(li)結(jie)構上(shang)杜絕堵(du)塞可能。

高(gao)頻超(chao)聲波(bo)在噴頭表(biao)面形成(cheng)“毛(mao)細(xi)波"，將(jiang)漿(jiang)料輕(qing)柔(rou)破碎(sui)為(wei)微米/納(na)米級霧滴(di)，實(shi)現無(wu)壓力、無(wu)堵(du)塞(sai)、無(wu)殘留的穩(wen)定(ding)噴塗(tu)。

專為MEA制(zhi)備(bei)優化(hua)，小巧(qiao)機身釋(shi)放實(shi)驗空(kong)間(jian)

• 桌(zhuo)面(mian)型(xing)設計

  體(ti)積(ji)小巧(qiao)，極大節省(sheng)實(shi)驗室操(cao)作(zuo)空(kong)間(jian)，輕(qing)松(song)安置於通(tong)風(feng)櫥(chu)或(huo)超(chao)凈(jing)工作臺中
  
  

• 噴塗(tu)面積靈(ling)活可調(tiao)

  支持從數平方厘米的(de)小樣(yang)至(zhi)20×20cm²的(de)實(shi)驗電(dian)極，匹配(pei)實(shi)驗室MEA研(yan)發(fa)全階(jie)段(duan)

• 霧滴均勻細(xi)膩

  確保(bao)催化層(ceng)厚度壹(yi)致、成(cheng)分(fen)均勻，助力制(zhi)備(bei)高(gao)性能、高(gao)重復性MEA
  
• 配備(bei)磁力攪拌
  
  邊噴邊攪拌，保(bao)證(zheng)漿(jiang)料不沈澱(dian)、分(fen)層
  
  

不堵(du)頭(tou)+ 占地小，帶(dai)來(lai)實(shi)實在在(zai)的(de)科(ke)研(yan)效率(lv)提升

• 實驗不中(zhong)斷(duan)

  長時(shi)間(jian)、多(duo)批(pi)次噴塗(tu)任務壹氣呵成(cheng)，再無(wu)需(xu)中(zhong)途清(qing)理(li)噴頭

• 數據更(geng)可(ke)靠(kao)

  均(jun)勻塗(tu)覆保(bao)障(zhang)批(pi)次壹致性，提升論文(wen)與報告(gao)的說(shuo)服(fu)力

• 操(cao)作(zuo)更(geng)輕(qing)松(song)

  壹鍵(jian)啟(qi)停(ting)，自(zi)動供(gong)料，新(xin)手也能快速(su)上(shang)手，解放人(ren)力
  
  

DC型(xing)納米超(chao)聲噴塗(tu)儀
為MEA制(zhi)備(bei)而(er)生(sheng)，不堵(du)頭(tou)設計，讓(rang)每(mei)壹(yi)次(ci)噴塗(tu)都穩(wen)定(ding)、均(jun)勻、省(sheng)心(xin)。