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        理(li)化(hua)公(gong)司(si)成(cheng)為(wei)美國(guo)JC Nabity公(gong)司(si)NPGS納(na)米圖形發生(sheng)系(xi)統中國(guo)地(di)區(qu)授(shou)權(quan)代理(li)商(shang)。美(mei)國(guo)JC Nabity Lithography Systems成立(li)於1988年，公(gong)司(si)成(cheng)功(gong)研發了(le)基於改(gai)造(zao)SEM、STEM或FIB的(de)電子束曝(pu)光裝置（Nanometer Pattern Generation System納(na)米圖形發生(sheng)系(xi)統，簡稱(cheng)NPGS，又稱電子束微影系(xi)統）。電子束曝(pu)光技術(shu)具有(you)可(ke)直(zhi)接(jie)刻(ke)畫(hua)精細(xi)圖案的(de)優(you)點(dian)，且(qie)高(gao)能(neng)電子的波長短(duan)（< 1 nm），可(ke)避(bi)免繞射效應的困(kun)擾(rao)，是(shi)實(shi)驗(yan)室(shi)制(zhi)作微小(xiao)納(na)米電子元(yuan)件*的(de)選擇。相(xiang)對(dui)於購(gou)買(mai)昂貴(gui)的電子束曝(pu)光機(ji)臺(tai)，以(yi)既(ji)有(you)的SEM等(deng)為基礎，外加(jia)電子束控(kong)制(zhi)系(xi)統，透過電腦(nao)介(jie)面控制(zhi)電子顯(xian)微鏡(jing)中電子束之(zhi)矢量(liang)掃(sao)描，以進行直接刻(ke)畫(hua)圖(tu)案，在(zai)造(zao)價方面可(ke)大(da)幅節省，且(qie)兼具(ju)原(yuan)SEM 的觀(guan)測功(gong)能(neng)，在(zai)功能(neng)與(yu)價格方面均(jun)具(ju)有(you)優(you)勢(shi)。由於其具(ju)有高(gao)分辨率(lv)以及低成(cheng)本等(deng)特(te)點，在(zai)北美研究(jiu)機(ji)構(gou)中(zhong)，JC Nabity的(de)NPGS是(shi)的(de)配(pei)套(tao)於掃(sao)描電鏡(jing)的電子束微影曝(pu)光系(xi)統，而且(qie)它的(de)應用在世(shi)界各地(di)越來越廣(guang)泛(fan)。
        NPGS的(de)技術(shu)目標(biao)是(shi)提(ti)供(gong)壹(yi)個功能(neng)強(qiang)大(da)的多(duo)樣(yang)化(hua)簡易操作系(xi)統，結合(he)使(shi)用(yong)市面上已有(you)的(de)掃(sao)描電鏡(jing)、掃(sao)描透射電鏡(jing)或聚(ju)焦(jiao)離(li)子束裝置，用來實(shi)現藝術(shu)級的(de)電子束或離(li)子束平版(ban)印(yin)刷(shua)技術(shu)。NPGS能(neng)成(cheng)功滿(man)足這(zhe)個(ge)目的(de)，得(de)到了(le)當前(qian)眾(zhong)多(duo)用戶的強(qiang)烈(lie)推薦(jian)和壹(yi)致(zhi)肯定(ding)。